화학물질합성
기자재납품
SLURRY PURIFICATION FOR CMP
반도체 소자의 집적도가 증가됨에 따라 반도체 웨이퍼 상에 형성되는 구조물의 높낮이 단차가 증가될 경우 후속 공정에서 발생하는
어려움을 해결하기위해 CMP (Chemical-Mechanical Polishing)라는 반도체 웨이퍼 표면 평탄화 공정이 널리 이용되고 있습니다.
HOW TO OLED PURIFICATION?
전기에너지를 광에너지로 변환하는 소자로 구성되어 있는 OLED는 디스플레이산업 전반에서 활발하게 사용되고 있으나 소자 특성상 정제과정을 통해 순도를 높이는 작업이 필수적이며 이는 고비용과 높은 기술력이 불가피한 부분으로 알려져 있습니다
OLED소자를 정제하는 방법으로는 재결정법, 증류법, 컬럼크로마토그래피, 승화법 등이 있으며
컬럼 크로마토그래피가 가장 보편적입니다
슬러리를 구성하는 화학소재는 고분자 헤테로고리 화합물 및 아민류 소재 등이 있으며
CMP 공정에 있어서 소량이 첨가되기 때문에 실리카에 영향을 주지 않는 고순도를 유지해야 합니다.
비엔오캠은 차별화된 정밀화학소재 정제필터 기술로 고순도 소재를 생산합니다
COLUMN CHROMATOGRAPHY
용해, 컬럼, 분리, 분석, 분류, 농축등의 복잡한 과정을
통하여 고순도 유기물을 추출합니다.
고가의 실리카겔을 주로 사용하여 정제하며 까다로운
기술을 요하여 전문인력을 통해서만 정제가 가능합니다.
아직도 높은 비용과
비효율적인 방법을 사용하십니까?
비앤오켐 고유의 정제기술을 바탕으로 고순도 슬러리 소재분야를 선두합니다
비앤오켐은 자체 정밀화학소재 필터기술을 바탕으로 현재 SKC를 비롯한 다수의 기업과 개발 및 납품을 진행하고 있습니다
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OLED정제가 가능합니다!!
복잡한 과정과 고비용, 그리고 전문인력을 통해서만 가능했던 그 동안의 정제방법을 자체적으로 개발한 COMPOUND를 활용하여 획기적으로 개선했습니다. 이제 누구나 쉽게 매우 저렴한 비용으로 빠른시간에 고순도의 소자를 생산할 수 있습니다.
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